多次纺丝与退火对ITO薄膜表面均匀性的影响
Surface Uniformity of ITO Thin Films Prepared by Repeatedly Electro spinning and Annealing
投稿时间:2013-04-09  
中文关键词:ITO透明导电薄膜  多次电纺丝  退火  表面均匀性
英文关键词:ITO transparent conductive film  multiple electro spinning  annealing  surface uniformity
基金项目:
作者单位
常溪 石家庄铁道大学 材料科学与工程学院 
杨立宁 石家庄铁道大学 材料科学与工程学院 
齐海波 石家庄铁道大学 材料科学与工程学院 
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中文摘要:
      通过多次纺丝与退火工艺在普通玻璃载玻片上制备ITO透明导电薄膜,研究了退火工艺对薄膜表面形貌的影响。结果表明:退火不仅提高了ITO颗粒的洁净程度,同时减小了其在薄膜表面的粒径分布。多次纺丝与退火可以提高ITO颗粒的覆盖密度,得到致密性比较好、表面缺陷比较少、表面粗糙度比较小、均匀平整的透明导电薄膜。
英文摘要:
      ITO Transparent conductive thin film on slide glass was prepared by multiple electro spinning and annealing process. The results indicate that that annealing promotes crystallinity and reduces size distribution of ITO particles. As the result, uniform and smoothing thin film of high loading of ITO particles can be obtained with less surface defects and small roughness.
常溪,杨立宁,齐海波.多次纺丝与退火对ITO薄膜表面均匀性的影响[J].石家庄铁道大学学报:自然科学版,2014,(2):100-104.
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